ORION NanoFab

ORION NanoFab

用于亚 10 纳米级应用的离子束显微镜

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总体描述

集 3 种聚焦离子束于一身的显微镜,可以实现亚 10 nm 结构的超高精度加工

快速、精准的亚 10 纳米结构加工。借助 ORION NanoFab 显微镜可在镓、氖及氦离子束之间实现无缝切换:

  • 氖离子束可以快速高效地进行纳米结构加工。
  • 氦离子束可以加工亚 10nm 级精度的结构。
  • 备选的镓聚焦离子束能够进行大块样品材料的刻蚀。


ORION NanoFab 集镓、氖、氦三种离子束于一身,是能实现从微米到纳米微加工的先进成像加工系统。

技术参数:

Orion NanoFab 拥有纳米加工和成像引擎 - 配有集成软、硬件的控制系统。纳米图形发生器(NPVE)为每个 NanoFab 镜筒提供了一台 16 位扫描图形发生器,以及支持实时图案加工和成像的双信号采集硬件。通过图形化用户界面(GUI)完全控制离子束:可创建一系列可编辑的形状,如矩形、梯形、多边线、直线、折线、椭圆及点。然后,对这些形状进行矢量切割,并通过剂量和加工参数的调节进行完全的过程控制。

特点:

  • 快速亚 10 nm 结构加工
    使用氖和氦离子束加工有超高精度要求的精细亚 10 纳米结构。无论是使用溅射、气体辅助切割、气体辅助沉积或是光刻技术刻蚀材料,在亚 10nm 加工应用中 ORION NanoFab 均表现不凡。

  • 集三种离子束显微技术于一体
    使用镓聚焦离子束刻蚀大块材料。利用精准的氖离子束快速完成微加工,利用氦离子束加工精细的亚 10 纳米级结构。利用氦和氖离子还可以防止传统 FIB 镓粒子注入引起的基体材料性质变化。

  • 高分辨率成像
    借助 0.5 纳米成像分辨率,它可在同一台加工仪器中实现样品的高分辨率成像。与使用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)成像相比,其可获得 5 至 10 倍的景深并和更丰富的图像细节。