总体描述

灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能
将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。
Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有一流的背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。

技术参数：

基于成熟的 Gemini 技术
Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。
Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。
Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。

特点：

用于清晰成像的灵活探测
利用先进探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。
利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。
Sigma 的 4 步工作流程节省大量的时间
自动化加速工作流程
4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。
首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。
接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。最后使用工作流程的最后一步，将结果可视化。
使用顶级的 EDS 几何探测器加速 X 射线分析
高级分析型显微镜
将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 一流的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。
在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。
获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。